Yılama: Web sitemizi ziyaret etmenizi bekliyoruz, herhangi bir soruşturma, lütfen bize ulaşın. Ödeme ile ilgili iş, lütfen satıcımızla onaylayın, hoş bir gezi yapın.
Türk dili  |
Karakteristik
Tantal nitrür (tan), bir kimyasal bileşiktir, bir tantalın nitrürüdür. TA'tan stokimetrik olarak birden fazla bileşik fazı vardır.2N ta3N5 bronzluk dahil.
Kimyasal Formül: Tan
Molar kütlesi: 194.955 g / mol
Görünüş: Siyah kristaller
Yoğunluk: 14.3 g / cm3
Erime Noktası: 3,090 ° C (5,590 ° F; 3,360 K)
Suda çözünürlük: çözünmez
Kristal Yapısı: Altıgen, HP6
Başvuru
Bazen, bakır veya diğer iletken metaller arasında bir difüzyon bariyeri veya \"tutkal \" katmanları oluşturmak için entegre devre üretiminde kullanılır. Beol işleme durumunda (c. 20 nm'de), bakır önce tantal ile kaplanır, daha sonra fiziksel buhar biriktirme (PVD) kullanılarak tan ile; Bu bariyer kaplı bakır daha sonra PVD ile daha fazla bakır ile kaplanır ve mekanik olarak işlenmeden önce elektrolitik olarak kaplanmış bakır ile etkilenir.
Aynı zamanda ince film dirençlerinde uygulaması vardır. Nikrom dirençleri üzerindeki nichrom dirençleri üzerinde neme dayanıklı olan bir pasifleştirici oksit filmi oluşturur.
Karakteristik
Tantal nitrür (tan), bir kimyasal bileşiktir, bir tantalın nitrürüdür. TA'tan stokimetrik olarak birden fazla bileşik fazı vardır.2N ta3N5 bronzluk dahil.
Kimyasal Formül: Tan
Molar kütlesi: 194.955 g / mol
Görünüş: Siyah kristaller
Yoğunluk: 14.3 g / cm3
Erime Noktası: 3,090 ° C (5,590 ° F; 3,360 K)
Suda çözünürlük: çözünmez
Kristal Yapısı: Altıgen, HP6
Başvuru
Bazen, bakır veya diğer iletken metaller arasında bir difüzyon bariyeri veya \"tutkal \" katmanları oluşturmak için entegre devre üretiminde kullanılır. Beol işleme durumunda (c. 20 nm'de), bakır önce tantal ile kaplanır, daha sonra fiziksel buhar biriktirme (PVD) kullanılarak tan ile; Bu bariyer kaplı bakır daha sonra PVD ile daha fazla bakır ile kaplanır ve mekanik olarak işlenmeden önce elektrolitik olarak kaplanmış bakır ile etkilenir.
Aynı zamanda ince film dirençlerinde uygulaması vardır. Nikrom dirençleri üzerindeki nichrom dirençleri üzerinde neme dayanıklı olan bir pasifleştirici oksit filmi oluşturur.
