Hedef materyalin yapım yöntemi, sınıflandırma ve uygulama

Yöntem yapmapüskürtme hedefimaterials

Şu anda, hedef materyaller çoğunlukla döküm ve toz metalurji ile hazırlanır.

1. döküm yöntemi: belirli bir kompozisyon oranı olan alaşımlı hammadde erir ve sonra alaşım çözeltisi, külçe oluşturmak için kalıbın içine dökülür ve nihayet hedef mekanik işleme ile yapılır ve döküm yöntemi eriyik ve döküm yöntemi erir ve vakum. Yaygın olarak kullanılan eritme yöntemleri, vakum indüksiyonu eritme, vakum arkı eritme ve vakum elektron bombardımanı eritme, vb. Dezavantaj, farklı erime noktaları ve yoğunlukları olan iki veya daha fazla metal için, sıradan erime yöntemiyle tek tip alaşım hedefleri elde etmek zordur.

2. Toz Metalurji Yöntemi: Belirli bir kompozisyon oranı olan alaşımlı hammaddeler eritilir, külçelere dökülür ve sonra ezilir. Ezilmiş toz, izostatik presleme ile oluşturulur ve daha sonra yüksek sıcaklıkta sinterlenir ve nihayet hedef materyali oluşturur. Avantajı, hedef materyalin kompozisyonda üniformalı olmasıdır; Dezavantajları, düşük yoğunluklu, yüksek safsızlık içeriğidir, genellikle soğuk presleme, vakumla sıcak presleme ve sıcak izostatik presler dahil olmak üzere yaygın olarak kullanılan toz metalurji işlemidir.

Püskürtme hedefinin sınıflandırılması ve uygulaması

Farklı malzeme hedefine göre, ayrılabilir: metal hedef, seramik (oksit, nitrür vb.) Hedef, alaşım hedefi.

Farklı uygulama yönlerine göre, ayrılabilir:

1. Yarı İletken İlgili Hedef: Elektrot, Kablolama Filmi: Alüminyum Hedef, Bakır Hedef, Altın Hedef, Gümüş Hedef, Palladium Hedef, Platin Hedef, Alüminyum Silikon Alaşım Hedef, Alüminyum Silikon Bakır Alaşımlı Hedef, vb. Depolama Elektrot Filmi: Molibden Hedefi, Tungsten Hedef, titanyum hedef vb. Yapışma filmi: Tungsten Hedef, Titanyum Hedef, vb. Kapasitör yalıtım filmi: Zirkonat titanat hedef materyal.

2. Manyetik Kayıt Hedefi: Dikey Manyetik Kayıt Filmi: Kobalt-Krom Alaşımlı Hedef, vb. Sabit disk filmi: Kobalt-CR-TA Alaşımlı Hedef, Kobalt-CR-PT Alaşımlı Hedef, Kobalt-CR-TA Platin Alaşımlı Hedef, vb. Film Kafası: Kobalt Tantal Krom Alaşımlı Hedef, Kobalt Krom Zirkonyum Alaşımlı Hedef, vb. IOL Filmi: Kobalt-Platinum Alaşımlı Hedef, Kobalt-paladyum alaşımlı hedef, vb.

3. Optik Kayıt Hedefi: Faz Değişimi CD Kayıt Filmi: Telluride Hedef, Antimon Selenid Hedef, Germanyum Antimoni Telluride Alaşımlı Hedef, Germanyum Telluride Alaşımlı Hedef, vb. Manyetik disk kayıt filmleri: Disprosyum Demir Kobalt Alaşımlı Hedef, Terbiyum Demir ve Kobalt Alaşımlı Hedef, Terbiyum Demir ve Kobalt Alaşımlı Hedef, Alümina Hedef, Magnezyum Oksit Hedef, Silikon Nitrür Hedef, vb. Optik Disk Yansıma Filmi: Al Hedef, AL TI Hedef, AL CR Hedef, Altın Hedef, Altın Alaşım Hedef, vb. Nitrür hedefi, silikon oksit hedefi, çinko sülfit hedefi vb.

4. Hedefi göster: şeffaf iletken film: indiyum teneke oksit hedef, çinko oksit alüminyum hedef, vb. Elektrot kablo filmi: molibden hedef, tungsten hedef, titanyum hedef, tantalum hedefi, krom hedef, alüminyum hedef, alüminyum titanyum alaşımlı hedef, alüminyum tantalum Alaşım hedefi vb. Elektriklüminesan filmler: çinko sülfür katkılı manganez hedefi, çinko sülfür doped terbiyum hedefi, kalsiyum sülfür doped Europium hedefi, Yttrium oksit hedefi, tantalum oksit hedefi, baryum titanat hedefi, vb.

5. Diğer Uygulama Hedefi: Dekoratif Film: Titanyum Hedef, Zirkonyum Hedef, Krom Hedef, Titanyum Alüminyum Alaşımlı Hedef, Paslanmaz Çelik Hedef, vb. Düşük dirençli film: Ni-Cr Alaşımlı Hedef, Ni-Cr Silikon Alaşımlı Hedef, Ni-Cr Alüminyum Alaşım hedefi, Ni-Cu alaşım hedefi, vb. Süper iletken film: YBCO Hedef, Bizmut Strontium Kalsiyum Bakır Oksijen Hedefi. Aracı Kaplama Filmi: Nitrür Hedef, Karbür Hedef, Borid Hedef, Krom Hedef, Titanyum Hedef, Titanyum Alüminyum Hedef, Zirkonyum Hedef, Grafit Hedef, vb.